真空溅射镀膜原理是什么
溅射镀膜是一种常用的表面形成技术，它是利用物理冷凝原理在物体表面形成一层薄膜。其基本原理是用高能离子束轰击固体材料（称为靶材），使得靶材表面的原子和分子离开靶材，通过惯性效应沉积在希望镀膜的物体表面，从而形成一层薄膜。
具体而言，溅射镀膜技术的工作原理是：将待镀膜物品（如塑料、玻璃或金属）置于真空室中，使用高频电源在靶材上产生电弧或使用直流或脉冲电流等通过靶材的离子束轰击靶材，即溅射过程。靶材中的原子和分子将从表面脱离，在真空室内运动，并沉积在待镀膜物品的表面，从而形成一层均匀的薄膜。
通过控制靶材的材料、工艺参数和溅射能量等，可以获得不同颜色和性质的薄膜，如镀金、黑色、透明等。溅射技术具有成本低、可控性好、生产效率高和工艺环保等优点，因此在现代工业制造中得到广泛应用。
真空溅射镀膜的原理是利用高速运动的离子轰击固体材料的表面，使其原子脱离并附着在待镀膜材料的表面上，形成一层薄膜。具体来说，真空室内的高频电磁场会对固体材料产生离子轰击，将材料表面的离子加速，并撞击待镀膜材料表面，使其表面原子离开并附着在镀膜材料表面上，形成一层薄膜。这种方法可以制备多种不同种类和形态的薄膜，常用于制备半导体保护膜、金属防氧化膜等。
基本原理是利用带电荷的离子在电场中加速后其有一定动能的特点,将离子引向欲被溅射的靶电极。
在离子能量满足一定条件的情况下,入射的离子在与靶原子的碰撞过程中使靶原子从表面溅射出来,被溅射出来的原子带有一定的动能,并且会沿着一定的方向射向基片,从而实现在基片上薄膜的沉积。
真空溅射镀膜是一种常见的表面处理技术，其原理是将一些材料加热至高温状态，然后使其变成等离子体，利用专门设计的装置将这种材料聚集到需要覆盖的物体表面上，从而形成一层均匀的薄膜覆盖在该物体表面上。
因此，真空溅射镀膜是一种物理气相沉积技术，主要适用于金属、金属氧化物、金属氮化物、非晶态材料等非组成化合物薄膜的制备。
此外，真空溅射镀膜技术具有高成膜速率、厚膜可控性好、膜质优秀、膜厚均匀性高等优点，因此被广泛应用于光学、电子、材料等领域。
在真空室中产生正氩离子，轰击靶材料；
离子通过物理过程从靶上撞击出原子，靶具有所要求的材料组分；
被撞击的原子在基体表面凝聚并形成薄膜；
额外材料由真空泵抽走。
