尼康曝光机和光刻机都是半导体产业中用于制造芯片的重要设备,但是在具体的操作和作用上存在一些区别。
尼康曝光机是一种基于投影光学原理的设备,主要用于将芯片上的电路图样“投影”到硅片上进行制造。尼康曝光机的主要作用是在光罩与硅片之间形成一条非常薄的光学焦点线,通过精密的机械运动和光学透镜的对焦来使图案对准以进行曝光。尼康曝光机制造芯片的精度非常高,可以到达纳米级别。
光刻机也是一种制造芯片的设备,是尼康曝光机的一种衍生技术。光刻机与尼康曝光机相比需要更高的精度,因为它能够制造更小和更准确的图案。光刻机主要通过在硅片上喷射光线来制造芯片,然后使用化学方法来形成电路。精度可以达到亚纳米级别,可以在像素之间创造出更清晰、更准确的图案。