接近式光刻机是一种用于半导体芯片制造的重要设备，也被称为近场光刻机（proximity lithography）。它是一种通过近距离接触或接近式接触的方式，将光线聚焦到硅片上，以在微细的尺寸上模拟芯片电路图案的光刻技术。
在接近式光刻机中，光源会产生紫外线，经过光学系统将光线聚焦并通过掩模（photomask）上的细微图案。通过将芯片（或硅片）和掩模之间的距离保持在接近或接触状态，将芯片表面涂覆上一层光刻胶（photoresist），然后使用光刻机进行光刻曝光。
曝光过程中，经过光刻胶的紫外线将会通过掩模上的图案进行传输，并在光刻胶上形成一个模拟芯片电路图案的图案。接着，通过不同的化学和物理过程，如显影、蚀刻和清洗等步骤，将这些图案转移到硅片上。这样，就可以在芯片上创建非常微小和精细的电路结构。
接近式光刻机在半导体制造中扮演着关键的角色，它可以实现亚微米甚至纳米级别的精度，因此被广泛应用于集成电路（IC）制造中。通过接近式光刻机，可以实现制造更加复杂和高密度的芯片，推动了半导体技术的发展和进步。
