半导体外延设备是什么设备啊
外延(Epitaxy)制备技术是获得微纳米级高质量单晶半导体材料的重要手段；
半导体外延设备是半导体薄膜工艺设备中最高端、最具技术含量的一类设备，目前国产设备大多只能满足实验室科研需求，而产业化应用需要采用进口设备，这类设备大多被美国、德国、日本等国家垄断，尖端设备对我国实行严格的封锁禁运；基于本项目领军技术人员的二十多年的技术积累，开发多源大尺寸分子束外延MBE设备，突破国外技术垄断和封锁。
多源大尺寸分子束外延MBE设备，是半导体材料制备核心关键设备，国家重大战略急需（如第三代半导体），国外已对中国禁运。
1.
单晶炉。设备功能:熔融半导体材料,拉单晶,为后续半导体器件制造,提供单晶体的半导体晶坯。
2.
气相外延炉。设备功能:为气相外延生长提供特定的工艺环境,实现在单晶上,生长与单晶晶相具有对应关系的薄层晶体,为单晶沉底实现功能化做基础准备。气相外延即化学气相沉积的一种特殊工艺,其生长薄层的晶体结构是单晶衬底的延续,而且与衬底的晶向保持对应的关系。
3.
分子束外延系统。设备功能:分子束外延系统,提供在沉底表面按特定生长薄膜的工艺
外延设备指的是连接到计算机、服务器或其他设备上的周边设备，如鼠标、键盘、打印机、扫描仪、摄像头、话筒、扬声器、显示器等，这些设备提供给计算机供人类交互和数据输入输出。
外延设备的种类繁多，满足了人类对计算机辅助功能的不同需求，使得使用计算机和其他设备更加方便和舒适。
