EUV光刻机的光具有极短的波长,只有13.5纳米,比紫外光刻机使用的波长短得多。这种波长对于光学材料具有极高的吸收率,甚至连玻璃都不能透过这种波长的光线。
因此,为了让EUV光能够在光刻机中传输,需要使用反射镜来反射光线。
这些反射镜使用的是多层膜反射技术,能够将光线反射回到光刻机的光学系统中,从而实现高精度的光刻。
光刻机为什么要抛光镜片
EUV光刻机的光具有极短的波长,只有13.5纳米,比紫外光刻机使用的波长短得多。这种波长对于光学材料具有极高的吸收率,甚至连玻璃都不能透过这种波长的光线。
因此,为了让EUV光能够在光刻机中传输,需要使用反射镜来反射光线。
这些反射镜使用的是多层膜反射技术,能够将光线反射回到光刻机的光学系统中,从而实现高精度的光刻。
EUV光刻机使用的是极紫外(EUV)光源,其波长为13.5纳米,远远短于可见光。由于介质对EUV光的吸收非常强,所以传统的透射式光学元件无法用于EUV光刻机。因此,EUV光刻机采用反射镜来反射和聚焦EUV光。反射镜由多层膜组成,这些膜能够反射EUV光而不吸收它。这种设计使得EUV光能够被有效地聚焦和投射到光刻模板上,实现高分辨率的微影。