关键尺寸(Critical Dimension，简称CD)是指在集成电路光掩模制造及光刻工艺中为评估及控制工艺的图形处理精度，特设计一种反映集成电路特征线条宽度的专用线条图形。
关键尺寸(Critical Dimension，简称CD)是指在集成电路光掩模制造及光刻工艺中为评估及控制工艺的图形处理精度，特设计一种反映集成电路特征线条宽度的专用线条图形。
关键尺寸（CD） 芯片上的物理尺寸特征被称为特征尺寸。描述特征尺寸的另一个术语是电路的几何尺寸。特别值得关注的是硅片上的最小特征尺寸，也称为关键尺寸或CD。例如：如果在芯片上的最小尺寸是0.18μm，那么这个尺寸就是CD。自半导体制造业开始以来，器件的CD一直在缩小，从20世纪50年代初期以大约125μm的CD开始，是7nm或者更小。半导体产业使用的“技术节点”这一术语描述在硅片制造中使用的可应用的CD。
除此之外，关键尺寸还可以定义为，在特定曝光强度阈值下得到的光刻胶沟槽或线条的宽度，如图1所示。相似地，光刻空间像给出的是相对强度，则光刻空间像的关键尺寸可以定义为在特定相对强度阈值下所得到的图形的宽度。
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