电子束光刻，利用电子束在涂有电子抗蚀剂的晶片上直接描画或投影复印图形的光刻技术。 电子抗蚀剂是一种对电子敏感的高分子聚合物。经过电子束扫描过的电子抗蚀剂发生分子链重组，使曝光图形部分的抗蚀剂发生化学性质改变，经过显影和定影，获得高分辨率的抗蚀剂曝光图形。现代的电子束光刻设备已经能够制作小于10纳米的精细线条结构，也可制作光学掩模版。
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