金属有机气相沉积（metal organic chemical vapor deposition）是2016年公布的化学名词。
用金属有机化合物作为前驱物的化学气相沉积方法。金属有机气相沉积技术主要用于制备Ⅲ-V族、Ⅱ-VI族等半导体超晶格、量子阱等低维材料，以及多元固溶体的多层异质结构等各种薄膜材料。
《化学名词》第二版。
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