1. 区别
2. ad平面和添加层是在半导体器件制造过程中使用的两种不同技术。
ad平面是指通过化学气相沉积（CVD）将一层薄膜材料沉积在基片上，形成平坦的表面。而添加层是指通过离子注入或者离子激发等技术，在基片上加入掺杂物，改变材料的电学性质。
3. ad平面主要用于制造平面电路和集成电路中的金属线、电容器等元件，以提供电子器件的连接和储存功能。而添加层则主要用于改变半导体材料的导电性能，例如在晶体管中形成源极、漏极等区域，以控制电流的流动。因此，ad平面和添加层在功能和应用上有着不同的作用和效果。
