CVD（Chemical Vapor Deposition，化学气相沉积）镀膜工艺是一种制备薄膜的技术。
这种工艺通过将含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂的蒸汽以合理的速度引入反应室，在衬底表面发生化学反应并在衬底表面上形成薄膜。CVD 镀膜工艺可以制备各种不同类型的薄膜，具有较好的膜层质量和均匀性。在 CVD 镀膜工艺中，通常包括以下步骤：准备衬底材料：选择合适的衬底材料，如硅片、玻璃、金属等，以满足不同的应用需求。制备气态反应剂：根据需要制备气态反应剂，如金属有机化合物、卤素化合物等。引入气态反应剂：将气态反应剂引入反应室，与衬底材料表面发生化学反应。控制反应条件：通过调整温度、压力、气体流量等参数，控制反应过程，实现理想的膜层生长。薄膜检测与分析：对制备的薄膜进行检测和分析，评价其性能和质量。CVD 镀膜工艺在半导体、平板显示、光学等领域有广泛应用。
