激光直写是利用强度可变的激光束对基片表面的抗腐蚀材料实施变剂量曝光，显影后在抗腐蚀层表面形成所要求的浮雕轮廓，激光直写系统的基本工作原理是由计算机控制高精度激光束扫描，在光刻胶上直接曝光写出所设计的任意图形，从而把设计图形直接转移到掩模上。
问激光直写与光刻区别
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